產(chǎn)業(yè)實力增強 中國集成電路變道超車存機遇


中國產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟信息網(wǎng)   時間:2021-06-21





  6月9日,工業(yè)和信息化部電子信息司司長喬躍山在2021世界半導(dǎo)體大會上指出,2020年,我國集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模達到8848億元, “十三五”期間年均增速近20%,為全球同期增速的4倍。同時,我國集成電路產(chǎn)業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新與市場化上取得了顯著突破,設(shè)計工具、制造工藝、封裝技術(shù)、核心設(shè)備、關(guān)鍵材料等方面都有顯著提升。


  據(jù)中國工業(yè)報了解,在全球面臨 “芯片荒”的背景下,在南京舉辦的、為期3天的2021世界半導(dǎo)體大會格外引人注目,會議熱點聚焦中國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的諸多問題,眾多專家從自身研發(fā)的角度出發(fā)積極探索產(chǎn)業(yè)新的應(yīng)對方向。


  中國集成電路產(chǎn)業(yè)實力不斷增強


  賽迪顧問股份有限公司副總裁李珂介紹,“十三五”期間,中國集成電路的進口年均增速是8.8%,而出口是11%,從側(cè)面反映中國的集成電路企業(yè)實力或者產(chǎn)業(yè)實力在不斷增強,正向著持續(xù)改善或健康的方向發(fā)展。


  “十三五”期間,IC設(shè)計的增速22.3%,保持快速發(fā)展的勢頭,產(chǎn)業(yè)規(guī)模約為3000多億元;芯片制造業(yè)的增速為23.2%,芯片設(shè)計的增速為23.3%。2020年,中國集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模約為8848億元。李珂說: “短短4年,中國集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模翻番,這是我們成功的一面。”


  據(jù)了解,在新冠疫情的影響下,2020年全球半導(dǎo)體市場依然增長6.8%。李珂表示,由于 “十三五”期間中國芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展,有力支撐中國整個集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,也為供應(yīng)鏈安全、產(chǎn)業(yè)鏈安全提供了堅實保障。


  AMD全球高級副總裁、大中華區(qū)總裁潘曉明指出,半導(dǎo)體市場規(guī)模正在快速擴大,截至2020年第四季度的數(shù)據(jù),全球半導(dǎo)體市場的總規(guī)模達到4500億美元,相較2019年的4190億美元實現(xiàn)了較高的增長。


  技術(shù)創(chuàng)新與市場化取得顯著突破


  去年8月,國務(wù)院印發(fā)了 《新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策》,從財稅、投融資、研究開發(fā)、進出口、人才、知識產(chǎn)權(quán)、市場應(yīng)用、國際合作等方面對集成電路產(chǎn)業(yè)給予扶持。


  喬躍山指出,中國是全球主要的電子信息制造業(yè)的生產(chǎn)基地,也是全球規(guī)模最大、增速最快的集成電路市場。當(dāng)前,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進入重大調(diào)整期,風(fēng)險與機遇并存,而開放融通是不可阻擋的歷史趨勢。中國積極融合全球的資源,從市場、資金、技術(shù)、人才等多個層面深化國際合作,推進產(chǎn)業(yè)鏈上下游開放協(xié)同發(fā)展,已經(jīng)成為全球產(chǎn)業(yè)生態(tài)不可或缺的組成部分。


  喬躍山強調(diào),在中國經(jīng)濟穩(wěn)健增長的態(tài)勢下,在5G、云計算、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、智能網(wǎng)聯(lián)汽車等新型應(yīng)用的驅(qū)動下,中國集成電路市場需求仍將持續(xù)增長,重要性進一步提升。


  李珂表示,新興應(yīng)用場景將對我國集成電路產(chǎn)業(yè)形成新發(fā)展格局產(chǎn)生巨大帶動效應(yīng);同時,新材料和新架構(gòu)的顛覆性技術(shù),將成為后摩爾時代集成電路產(chǎn)業(yè)的主要選擇。


  芯片制造工藝面臨技術(shù)挑戰(zhàn)


  顯然有專家同意李珂的看法。 “后摩爾時代的產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展趨緩,給追趕者創(chuàng)新空間和追趕機會。”中國工程院院士、浙江大學(xué)微納電子學(xué)院院長吳漢明表示,目前芯片制造工藝在技術(shù)層面上面臨三大挑戰(zhàn),分別為:精密圖形是芯片制造工藝的基礎(chǔ)挑戰(zhàn);新材料是芯片制造工藝的核心挑戰(zhàn);良率的提升是芯片制造工藝的終極挑戰(zhàn)。


  吳漢明認為,既然先進工藝的研發(fā)之路很難走,那么包括設(shè)計公司在內(nèi)的業(yè)界用戶就更應(yīng)該關(guān)心系統(tǒng)性能,因為 “成熟工藝+異構(gòu)集成”同樣可以大幅增強產(chǎn)品性能。目前國內(nèi)有一家新創(chuàng)立的公司采用40納米工藝,通過異構(gòu)集成提升了性能,用比較成熟的工藝做出了比較先進的系統(tǒng)。


  在吳漢明看來,這代表著后摩爾時代的技術(shù)延伸和發(fā)展方向。


  潘曉明也指出,在半導(dǎo)體的發(fā)展歷程中,摩爾定律發(fā)揮了關(guān)鍵作用,帶來了集成電路性能的顯著提升。當(dāng)前,摩爾定律正在明顯放緩,平均每3年晶體管密度才能增加1倍,每3.6年能效才能增長1倍。他強調(diào),集成電路新制程的成本正在顯著增加,CPU性能的提升不能僅僅依賴于制程的進步,后者對性能提升的貢獻率已降至40%左右,而應(yīng)該更加注重設(shè)計、架構(gòu)和平臺的優(yōu)化,制定長期的技術(shù)路線圖,不斷迭代CPU和GPU產(chǎn)品,滿足市場對算力持續(xù)增長的需求。


  變道超車成發(fā)展新機遇


  中國科學(xué)院院士、上海交通大學(xué)黨委常委、副校長毛軍發(fā)表示,中國集成電路落后有三大原因:一是射頻電子設(shè)計自動化 (E-DA)落后,現(xiàn)階段研究算法的多,但沒有形成有規(guī)劃、集成的發(fā)展能力;二是裝備落后,這主要是受整體能力和市場環(huán)境等多方面因素影響;三是器件與電路落后,主要表現(xiàn)在材料落后、工藝精細度和穩(wěn)定性不足。


  目前,芯片有兩條主要發(fā)展路線:一是延續(xù)摩爾定律;二是繞道摩爾定律。現(xiàn)在摩爾定律面臨一些挑戰(zhàn),包括物理極限、技術(shù)手段和經(jīng)濟成本挑戰(zhàn)。繞道摩爾定律有很多途徑,毛軍發(fā)認為途徑之一就是異質(zhì)集成電路,可能也是中國半導(dǎo)體集成電路變道超車發(fā)展的新機遇。


  毛軍發(fā)介紹說,半導(dǎo)體異質(zhì)集成電路就是將不同工藝節(jié)點的化合物半導(dǎo)體高性能器件或芯片、硅基低成本高集成器件成芯片,與無源元件或天線,通過異質(zhì)鍵合成或外研生長等方式集成實現(xiàn)的。


  毛軍發(fā)指出,異質(zhì)集成電路優(yōu)點明顯,能實現(xiàn)強大的復(fù)雜功能、優(yōu)異的綜合性能,突破單一半導(dǎo)體工藝的性能極限。同時,靈活性大、可靠性高、研發(fā)周期短,可以實現(xiàn)小型化、輕質(zhì)化,對半導(dǎo)體設(shè)備要求相對比較低,不受EUV光刻機限制。(經(jīng)曉萃)


  轉(zhuǎn)自:中國工業(yè)報

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